微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质研究

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微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质研究

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微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质研究毕业论文范文介绍开始：
【论文摘要】：在一定气体氛围内用超短激光脉冲照射硅表面,可在硅表面产生准规则排列的微米量级尖峰结构,形成具有强吸收的表面微构造硅。研究表明用飞秒激光脉冲刻蚀硅表面所形成的微结构与激光脉冲数、通量、偏振特性,背景气体种类、气压等有关,从而获得了控制表面形态的（本文此处忽略..）基本实验参数和规律。观察了不同背景气体环境下刻蚀过程中产生的等离子图谱,发现等离子光谱依赖于刻蚀过程中的背景气体种类和气压,在SF_6背景气体中得到的等离子谱最强,并且开始时其强度随着气压的增加而增加,直到70kPa时达到最强,然后随压强的增加而减（此处忽略..）弱。同时,等离子光谱的信号提供了刻蚀反应的信息,通过对光谱的分析,探讨了不同背景气体条件对刻蚀过程以及硅表面微结构的影响,得到了最佳的刻蚀背景气体条件。研究了微构造硅及其表面金属薄膜的从近紫外到中红外(0.3-16.7μm)的吸收特性,实验表明其具有宽波段（略..）的增强光吸收,对背景气体、表面形貌和薄膜厚度对光吸收的影响进行了探讨。在SF_6和N_2中制备的微构造硅表面形貌有很大差异,其光吸收性质也不同;而且表面尖峰高度和密度不同的样品其吸收也不相同,表明微构造硅的表面形貌对光吸收性质起着重要作用。对于经（文章此处忽略..）过镀银膜的表面微构造硅,其吸收率也随表面尖峰高度的密度变化而变化;并且吸收率随膜厚增加而减小。微构造硅这种0.3-16.7μm宽波段的强光吸收使其在红外探测器、隐身技术、高效太阳能电池等方面有很大的潜在价值。

以上为本篇毕业论文范文微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质研究的介绍部分。

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