ICP等离子体增强化学气相沉积制备纳米粉体氮化硅特性研究

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ICP等离子体增强化学气相沉积制备纳米粉体氮化硅特性研究

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ICP等离子体增强化学气相沉积制备纳米粉体氮化硅特性研究毕业论文范文介绍开始：
【论文摘要】：本论文主要研究了感应耦合等离子体增强化学气相沉积(ICPECVD)技术和反应主要由等离子体参数的分布特性以及Si_3N_4粉体材料的制备工艺方法，寻求合适的工艺参数，制备纳米Si_3N_4粉体材料，以及利用马沸炉对纳米Si_3N_4粉体材料进行煅烧的初步研究，探索提高纳米Si_3N_4粉体材料性（文章此处忽略..）能的有效途径。利用朗缪尔探针诊断了反应室内等离子体参数，得到不同位置、不同功率和不同气压下等离子体密度的变化规律，结果表明离子密度为10~8～10~(10)cm~(-3)，等离子体密度随着功率的增大而增大，随着气压的升高而减小，由于离子鞘层的存在，在一定条件下提供了局部等离子体密度稳定的区域。通过对（本文此处忽略..）探针诊断结果的分析，调整ICP装置系统，得到很好的匹配效果，在射频输出功率为200W以内时，反射功率小于0.6W。在此基础上，采用ICP等离子体化学气相沉积技术，用硅烷和氮气为反应气体合成氮化硅纳米粉体。对得到氮化硅纳米粉体材料的TEM、IR和XRD分析表明：在射频功率为200W，气压为53Pa（本文此处忽略..）时，感应耦合等离子体CVD技术制备的纳米Si_3N_4粉体材料属于β-Si_3N_4六方晶系结构，其颗粒大小为20nm左右，分布均匀、不团聚、分散性好。而在功率为100W和150W时，所得到的氮化硅样品为非晶结构。粒径分布和团聚是纳米粉体材料重要的表征手段，采用激光散射技术对纳米氮化硅粉末粒径的分布（略..）和团聚进行分析，激光散射技术由于本身的限制和对样品的高要求，测量纳米材料的分布有较大的误差。氮化硅的煅烧表明：原始氮化硅纳米粉末中的β晶核在氮化中诱发β相生长，形成β-Si_3N_4。

以上为本篇毕业论文范文ICP等离子体增强化学气相沉积制备纳米粉体氮化硅特性研究的介绍部分。

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