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铝基铜沉积体系研究

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毕业论文范文题目:铝基铜沉积体系研究,论文范文关键词:铝基铜沉积体系研究
铝基铜沉积体系研究毕业论文范文介绍开始:
【论文摘要】:铜包铝材料在铜资源越来越匮乏的今天,其应用范围越来越广,成为继铜、铝后的第三种导体。它具有重量轻、相对成本低、价格稳定等优点,克服了铜成本高、价格大起大落等弊端。由于铝的特殊性质,在铝基体上镀铜是很困难的,目前国内就铝基上化学镀铜的研究几乎没有,但化学镀铜法作为新型的铜包铝材料生产方法其优势是非常显著的。本文主要探讨了新型铜包铝材料的生产方法----化学镀铜法,主要目的是在纯铝材料上找到一种新型的化学沉铜体系。本文在其他基体化(文章此处忽略..)学镀铜常用体系及其主要组分的研究基础上,以新型的还原剂及络合剂组合的铜沉积体系为课题,分析讨论了国内外几种甲醛替代还原剂,如次亚磷酸盐、葡萄糖以及替代络合剂如二乙烯三胺(DETA)三乙烯四胺(TETA)的铝基化学镀铜方法,同时研究了次亚磷酸盐作为还原剂,TETA作为络合剂的铝基化学镀铜体系的工艺参数优化,以期获得可行的工艺条件,为铝基化学镀铜综合利用领域提供新的技术参考。研究优化的主要工艺参数有:镀液组成、温度、pH、添加剂等工艺因素(本文此处忽略..)对铜沉积速率、镀液稳定性及镀层结合力的影响,以确定次亚磷酸钠为还原剂的化学镀铜体系的最佳工艺与配方,重点介绍了基体前处理对铝基化学镀铜的影响,以及铜离子初始浓度与初始pH值随着时间的变化,并以此设计工艺流程。实验结果表明:化学镀铜速率随着络合剂’TETA浓度以及施镀时间的增加而减小,随着硫酸铜浓度、次亚磷酸钠浓度、溶液pH值和反应温度的增加而增加;添加剂2,2'-联吡啶、对镀铜速度的影响较小,但对铜镀层外观质量影响较大。其铝基化学(此处忽略..)镀铜最佳条件为:CuSO4·5H2O质量浓度为8g/L,TETA浓度为10mL/L,次亚磷酸钠浓度为40g/L,NiSO4·6H2O为2g/L,2,2'-联吡啶为15mL/L,pH值为9.0,镀液温度为70℃。在最佳条件下,化学镀铜3小时后所得镀层附着力良好、外观红亮,镀速达到6.429μm/h,镀层表面平整、光滑、晶粒细致。基体预处理实验表明,经过化学镀镀前预处理的基体上所镀铜层,其表面质量及镀层性能均优于未经预处理的基体。随着时间的变化,铜离子浓度和pH值的降低严重影响了(文章此处忽略..)之后的镀铜速率以及镀液的稳定性,给化学镀铜带来了困难,所以,在铝基化学镀铜工业化应用中,不光要注意镀液组成初始浓度对铜沉积速率和镀液稳定性的影响,同样要密切关注组分浓度及pH值的变化情况,在镀铜过程中,适时的补加药品,调节pH值,才能延长镀液寿命,使铝基化学镀铜更充分更有效地进行下去。最后,论文概述了铝基化学镀铜的工艺流程,以及对今后的研究重点进行了阐述和展望。


以上为本篇毕业论文范文铝基铜沉积体系研究的介绍部分。
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