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由SiCl_4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积及发射光谱诊断

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毕业论文范文题目:由SiCl_4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积及发射光谱诊断,论文范文关键词:由SiCl_4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积及发射光谱诊断
由SiCl_4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积及发射光谱诊断毕业论文范文介绍开始:
【论文摘要】:近年来,随着传统能源的日趋枯竭,可再生光伏能源快速发展,其原材料多晶硅的需求也因此猛增。与此同时,多晶硅生产过程中的副产物四氯化硅的安全处理及环保问题也越来越受到人们的重视。本论文以SiCl_4为前驱体直接制备多晶硅,并采用具有应用优势且在近些年颇受关注的大气压等离子体化学气相沉积法,有效的利用了多晶硅工业的副产物,为安全、环保(此处忽略..)、低成本生长多晶硅探索了新的途径。1)本论文首先考察了大气压下采用不同的放电电源,即正脉冲高压电源、8kHz交流高压电源、100kHz交流高压电源及双源(正脉冲+100kHz交流高压电源)放电,对等离子体化学气相沉积制备多晶硅的影响。XRD及Raman表征结果表明,在正脉冲高压和8kHz交流高压电源放电条件下制备的样品为无定形硅,而采用100kHz交流高压(本文此处忽略..)电源及双源放电时制备的样品为多晶硅,由SEM看出,双源放电制得的样品粒径稍大。EDX能谱显示,制得的多晶硅样品主要为硅元素,含有微量的氯残留。在100kHz交流高压电源及双源放电情况下,分别考察了He稀释气、H_2分压、SiCl_4分压、放电功率及气体流速对制备多晶硅的影响。2)对由SiCl_4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积过程,采用(略..)发射光谱法进行了诊断。对H_2+SiCl_4放电体系,分别考察了不同频率交流电源、He稀释气流量、H_2分压、SiCl_4分压及放电功率下发射光谱的变化。并选用发射光谱图中Balmer系H原子H_α(656.6am)和H_β(486.1nm)的两条谱线对H原子的激发温度进行了计算和讨论。采用内标法对不同放电功率下H_2体系中的H原子数密度及H_2分子解离率进行了(此处忽略..)定量测定。在等离子体化学气相沉积过程中,观测到强的激发态Si~*跃迁谱线[288.2nm,3s~23p~2(~1D)-3s~23p4s(~1P°)]。由此推测等离子体激发分解SiCl_4产生的激发态Si~*是沉积形成多晶硅的重要活性物种。


以上为本篇毕业论文范文由SiCl_4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积及发射光谱诊断的介绍部分。
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