外源褪黑素对高温胁迫下黄瓜幼苗生理反应的影响

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外源褪黑素对高温胁迫下黄瓜幼苗生理反应的影响

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外源褪黑素对高温胁迫下黄瓜幼苗生理反应的影响毕业论文范文介绍开始：
【论文摘要】：黄瓜(CucumissativusL.)是中国南北方均可栽培的蔬菜,其喜温但不耐热,生长适温25~30℃,超过35℃即会受到伤害,出现叶片大而薄、叶色浅、节间长、花打顶、化瓜、光合效率降低、植株早衰、产量降低、品质变差(异形瓜)等现象。无论是中国南方的黄瓜露地栽培还是北方的越夏栽培或设施栽培,常常受到高温的威胁,高温已成为黄瓜生产的障碍因子之一。本试验以‘津春4号’黄瓜品种为试材,采用叶面喷施不同浓度的外源褪黑素(Melatonin,MT)的方法,通过测定高温胁迫条件下黄瓜幼苗活性氧(ROS)代谢、光合作用及抗坏血酸代谢有关物质及酶类的变化,探讨了外源MT对黄瓜幼苗生理反应的影响。结果表明:1.外源MT能显（此处忽略..）著降低高温胁迫下黄瓜幼苗叶片过氧化氢(H2O2)含量、超氧阴离子自由基(O2?-)产生速率、电解质漏渗率(RelativeElectricConductivity,REC)及丙二醛(MDA)含量,增强黄瓜幼苗叶片中超氧化物歧化酶(SOD)、过氧化氢酶(CAT)、过氧化物酶(POD)活性,提高了抗坏血酸(AsA)、谷胱甘肽(GSH)及可溶性蛋白质含量。说明MT预处理能抑制高温胁迫条件下黄瓜幼苗体内ROS的产生,提高抗氧化酶系的活性及抗氧化物质的含量,降低膜质过氧化水平,保护脂膜的完整性,减少电解质的外渗,使幼苗生理代谢机能正常,减轻高温胁迫对幼苗造成的伤害,提高幼苗抗高温胁迫能力。2.高温胁迫后黄瓜幼苗叶片净光合速率(Pn（略..）)降低,Gs(气孔导度)、胞间CO2浓度(Ci)、Tr(蒸腾速率)却增大。说明高温胁迫下黄瓜幼苗Pn的降低主要是由非气孔因素引起;高温胁迫后,初始荧光(F0)、原初光能转化效率(Fv/Fm)、PSII潜在活性(Fv/F0)、PSII反应中心电子传递速率(ETR)、PSII电子传递量子产量(ΦPSII)、光化学猝灭系数(qP)、Chl·a含量以及Chl·a/b明显下降是引起Pn下降的主要原因。而经外源MT处理的植株Pn、Chl·a、Chl·b含量、F0、Fv/Fm、Fv/F0、ETR和qP值的下降幅度较小,Ci水平较低,qN(非光化学猝灭系数)显著升高,提高了Chl·a/b比值。说明外施MT可显著缓解高温胁迫对黄瓜幼苗光合器官产（文章此处忽略..）生的伤害,提高黄瓜幼苗的光合能力,增强抗逆性。3.高温胁迫后,黄瓜幼苗叶片过氧化氢(H2O2)和丙二醛(MDA)含量比胁迫前明显增加;随高温胁迫时间的延长,还原型抗坏血酸(AsA)和还原型谷胱甘肽(GSH)含量持续下降,脱氢抗坏血酸(DHA)和氧化型谷胱甘肽(GSSG)含量逐渐升高,致使AsA/DHA和GSH/GSSG比值大幅下降;抗坏血酸过氧化物酶(APx)、单脱氢抗坏血酸还原酶(MDHAR)、脱氢抗坏血酸还原酶(DHAR)和谷胱甘肽还原酶(GR)活性明显升高,并在12h达到最大,随后有所降低,但降幅不大。H2O2与MDA之间呈极显著正相关关系,而H2O2和MDA均与AsA和GSH呈现出极显著负相关关系。与对照相比,外源MT能有效（本文此处忽略..）提高高温逆境下APx、MDHAR、DHAR和GR活性,从而提升AsA和GSH库的水平,增强对H2O2的清除能力,减少MDA的积累,维持细胞膜的稳定性,减轻高温对植株造成的伤害,提高黄瓜幼苗抵御高温胁迫的能力。综上所述,外源MT能有效提高高温胁迫下黄瓜幼苗光合作用,增强植物体内抗氧化酶活性,提升抗氧化物质的水平,抑制活性氧的产生或清除已产生的活性氧,缓解高温对植物带来的不良反应,增强抗逆性。

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