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化学机械抛光(CMP)技术

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毕业论文范文题目: 化学机械抛光(CMP)技术,论文范文关键词: 化学机械抛光(CMP)技术
化学机械抛光(CMP)技术毕业论文范文介绍开始:
   毕业论文 化学机械抛光(CMP)技术,说明书共19页,6736字。
  1 绪论
  化学机械抛光简称CMP技术是迄今唯一的可以提供整体平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统等表面的平坦化[1]。90 年代兴起的新型化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing , 简称CMP) 技术则从加工性能和速度上同时满足了圆片图形加工的要求[2]。化学机械抛光技术是化学作用和机械作用相结合的组合技术,其过程相当复杂,影响因素很多[3]。在化学机械抛光时,首先是存在于工件表面和抛光垫间的抛光液中的氧化剂、催化剂等与工件表面的原子进行氧化反应,在工件表面产生一层氧化薄膜,然后由漂浮在抛光液中的磨粒通过机械作用将这层氧化物薄膜去除,使工件表面重新裸露出来,再进行氧化反应,这样在化学作用过程和机械作用过程的交替进行中完成工件表面抛光[4、5]。两个过程的快慢影响着工件的抛光速率和抛光质量,因此要实现高效率、高质量的抛光,必须使化学作用过程和机械作用过程进行良好的匹配[6]。化学机械抛光和传统抛光特性明显不同,尤其是抛光率依赖于工作液中的磨粒浓度[7]。
  1.1 CMP的发展、应用
  随着半导体工业沿着摩尔定律的曲线急速下降,驱使加工工艺向着更高的电流密度、更高的时钟频率和更多的互联层转移。由于器件尺寸的缩小、光学光刻设备焦深的减小, 要求片子表面可接受的分辨率的平整度达到纳米级[8]。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃SOG、低压CVD、等离子体增强CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积—腐蚀—淀积等, 这些技术在IC 工艺中都曾获得应用。但是,它们虽然也能提供“光滑”的表面, 却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化[9、10]。目前,已被公认的是,对于最小特征尺寸在0.35μm及以下的器件,必须进行全局平面化,为此必须发展新的全局平面化技术[11]。
  .......
 


以上为本篇毕业论文范文 化学机械抛光(CMP)技术的介绍部分。

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