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纳米WC的制备及Ni-P/WC(nm)复合镀层研究
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纳米WC的制备及Ni-P/WC(nm)复合镀层研究
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纳米WC的制备及Ni-P/WC(nm)复合镀层研究
纳米WC的制备及Ni-P/WC(nm)复合镀层研究毕业论文范文介绍开始:
【论文摘要】
:本文研究了用高能球磨(机械合金化)法制备纳米WC和在过共晶铝硅铸造合金上电沉积Ni-P/纳米WC复合镀层的工艺,通过XRD、TEM、SEM等手段分析了纳米WC粉末及Ni-P/纳米WC复合镀层的组织结构和性能,并对复合电沉积机理作了初步探讨。主要内容和实验结果包括:(1)用机械合金化(高能球磨)法制备出平均粒度为40nm的晶态WC粉末,并将之应用于电沉积Ni-P/纳米WC复合镀层。试验表明,球磨工艺参数对WC粉末的形状和粒度有较大的影响;在球磨转速200rpm、球(文章此处忽略..)料比20∶1的条件下,经24小时以上高能球磨可获得100nm以下的WC粉末。XRD分析表明,此时WC粉末仍为晶态结构,但其X射线衍射锋宽化。(2)进行了过共晶Al-Si合金的镀前预处理及以Watt浴和H_3PO_3镀液体系为基础的Ni-P/WC(nm)电镀工艺研究,并优选出电镀的最佳工艺条件和研究了工艺参数的影响。(3)采用本文研究出的预处理和电镀工艺,首次在高硅铸铝合金上成功地电镀出非晶检质的Ni-P/纳米WC复合镀层;沉积速度达到50μm/h左右,镀层中WC含量达到13.62%,与(此处忽略..)基体结合力良好;经过适当热处理后,镀层的最高硬度值可达到1456HV,显著提高了过共晶铝硅铸造合金的表面硬度和耐磨性。通过XRD、TEM、SEM和光学金相分析,查明了Ni-P/WC(nm)复合镀层的基质为非晶态结构,晶态的纳米WC微粒则弥散分布于基质中;镀层表面呈现菜花形胞状形貌。(4)Ni-P/WC(nm)复合镀层的热处理试验表明,在300℃以下未有新相析出,其主要结构与镀态时无本质差别;在350℃以上,Ni-P基质发生晶化转变并析出Ni_3P等新相,显微硬度提高,其幅度(略..)随热处理温度升高而增大;与此同时,镀层外表面的胞形菜花状形貌弱化,至450℃以上时消失,表面变得光滑平整。热处理对镀层中WC(nm)的分布状态无显著影响。(5)进行了对Ni-P、Ni-P/WC(μm)、Ni-P/WC(nm)三种镀层的组织结构和性能的比较研究。结果表明:三种复合镀层的基质均为非晶态的Ni-P合金,而且后两者中的WC颗粒以晶志弥散分布的形式存在;经一定温度的热处理后,三种镀层的硬度都得到提高,并发生了晶化转变和Ni_3P等新相析出;在相同的热处理(此处忽略..)条件下,以Ni-P/WC(nm)硬度为最高,Ni-P/WC(μm)的硬度次之,而Ni-P镀层的广东工业大学硕土学位论文硬度最低。由此看出,纳米WC对镀层的弥散强化作用贡献更大。①)对复合电沉积的有关机理问题作了初步探讨,结果表明,Ni干/WC(叩)的复合电沉积可能符合Guglielmi的两步吸附模型,但此理论不能解释本文的Ni-P/WC(run)复合镀层的沉积过程。
以上为本篇毕业论文范文
纳米WC的制备及Ni-P/WC(nm)复合镀层研究
的介绍部分。
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